Substrate 的 X 光微影革命:挑戰 ASML 與 TSMC 雙壟斷的美國晶片新勢力(使用ChatGPT產生的摘要How to Kill 2 Monopolies with 1 Tool美國新創公司 Substrate 近日公開其突破性的 X 光微影技術(X-ray Lithography, XRL),聲稱能以遠低於現行 EUV 成本的方式生產 1 至 2 奈米節點晶片,挑戰由 ASML 與 TSMC 長期壟斷的半導體產業格局。這項技術可在單次曝光下完成極高解析度圖案,已展示出 12 奈米線寬與優異的線寬一致性(CDU 0.25nm)、重疊精度(1.6n...Ryan He (@ryanhe)