How to Kill 2 Monopolies with 1 Tool
美國新創公司 Substrate 近日公開其突破性的 X 光微影技術（X-ray Lithography, XRL），聲稱能以遠低於現行 EUV 成本的方式生產 1 至 2 奈米節點晶片，挑戰由 ASML 與 TSMC 長期壟斷的半導體產業格局。這項技術可在單次曝光下完成極高解析度圖案，已展示出 12 奈米線寬與優異的線寬一致性（CDU 0.25nm）、重疊精度（1.6n...
Ryan He (@ryanhe)
Ryan He
Substrate 的 X 光微影革命：挑戰 ASML 與 TSMC 雙壟斷的美國晶片新勢力（使用ChatGPT產生的摘要