miau
https://images.plurk.com/7tAdSRmuRs83kTNNNNFT1R.jpg

日戰友早上傳來消息,日本3月底公告的半導體設備管制的項目細節上週已出爐

=========
Nikon的浸潤式ArF DUV機只剩一款舊型號NSR-S609B不在管制範圍,這款是2005/2006推出,當初規格是寫製程可以到55nm以下(45nm、32nm之類),比它先進的下一款NSR-S610C規格則是邏輯IC製程可以到32nm。
=========
所以……
荷蘭蹲、荷蘭蹲、荷蘭蹲完日本蹲~~
日本蹲、日本蹲、日本蹲完荷蘭蹲~~

news
晶片
semiconductor
miau
日本政府於2023/3/31針對新的半導體製造設備23項目的輸出管制修正案,至4/29為止徵求公眾的意見,修正案的行政命令將於7月起發佈實施。

追加的輸出管制項目,主要是針對以EUV(極紫外光)的曝光機設備相關為首的先進半導體製造技術。

以下列出了各種設備的管制條件,包括設計,波長,成膜條件等。
載入新的回覆