沉默潛艦
[討論] 華為 EUV光刻機 新專利 突破目前科技極限
華為申請EUV設備專利,中國半導體提供應鏈夢想"完全獨立"。
从华为最新EUV光刻专利,我们能了解到什么?
华为突破EUV光刻机专利
簡而言之,華為已經找到方法繞過美國傳統 EUV 專利,
並可達到比現有科技尺寸大十倍的地步
未來半導體製程獨立於美國 將指日可待
美國封鎖中國 中國或成最大贏家

@Silentsubmarine on Plurk
掰噗~
機器人對封鎖之類的字眼很敏感(ninja)
隔壁班的男生
John Smith
推 homeaki: 大十倍 手機變炒鍋嗎
↘㊣疝氣a小貓子㊣↖
大十倍XDDDDDDDD
烏白ㄍㄨㄥˋ……
Reco
https://images.plurk.com/3bRh9Z6XW7E35ut5CpmXxT.png
pfge
比3奈米大10倍?30奈米?
雷光的吟遊詩人
它們可以以病毒為師,把晶片做成60奈米。
JXW
哇,這真是太好笑了(LOL)
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