曝光機是決定半導體生產製成水平高低的核心技術，包含光學系統、微電子系統、電腦系統、精密機械系統、控制系統等構件，極為複雜精密。而隨著半導體技術進入到5nm節點以內，對EUV曝光機的需求也不斷增長，目前全球只有ASML一家公司能夠生產EUV曝光機，可以說掌握了半導體生產的關鍵。